H750氣相沉積系統設備規格 ：

電力使用規格： 三相/AC 220V/30A。

使用數位LED真空度計顯示終極及工作真空度。

真空沉淀室容積： ψ705x680H mm。

高溫裂解爐 ：2000w。

真空度： 5x10^-3 Torr 。

排氣速度： 干式1600L/min: 油式1000L/min。

冷卻水需求： 流量 3~7 L/mim 壓力2~4 kg/cm2 溫度 18~30 ℃

氮氣N2需求：壓力 0.5~1 kg/cm2 稀釋流量 0~60 L/min 密封流量 0~20 L/min

占地面積： 2400x1500x2500mm。

可選配ＰＬＣ 控制系統及機機作界面

H750氣相沉積系統設備優點 ：

採上掀式設計便于進行腔體清潔及維護

所有真空管路采用不銹鋼連節，各節口皆可做測漏點，以利維護及保養

操作簡易，可依實務需求變換自動 / 手動操作模式，維護簡易，服務迅速